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exanimo [UID:1335]

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电力半导体器件工艺用高纯水检测方法
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a8v\H8@X  
{<a)+S.6U  
●  中华人民共和国机械行业标准 4F6I7lu  
JB/T 7621--94  E2z=U  
电力半导体器件工艺用高纯水 j?T>S]xOX  
机械工业部.1994-12-09批准 1995—O6—O1实施 &;W K=#  
>wL!`:c'"  
1 主题内容与通用范围 Nf2lw]-G4  
    本标准给出了电力半导体器件工艺用高纯水(以下称高纯水)的级别、技术要求、测试方法和规则。 ,aq>9\ pi  
    本标准适用于去离子处理后的高纯水。 T+t7/PwC;  
2 引用标准 :Ig9n :  
    GB11446电子级水及其检测方法 7/ fJQM  
3术语 !>wu7u-  
    3.1 电导率electrical conductivityctricalconduc2ivity d_f*'M2Gv  
    在规定温度下,1cm3水溶液两相对面之间测得的电阻值的倒数。电导率通常以μS/cm为单位。 =Lb(N61  
    水的理论电导率为0.0548μs/cm(25℃时)。 0S }\ML  
    3.2电阻率 resistivity #N'9F&:V$  
    电导率之倒数。纯水的理论电阻率为18.3MΩ.cm(25℃时)。温度升高时电阻率下降。 JDp=w,7LF  
    3.3颗粒性物质granular sulbstance ^JY:$)4["  
    除气体以外,以非液态形式分散在水中,并形成非均匀相混合物的物质。 5p-vSWr !  
    3.4总有机碳(TOC)total organic carbon us u{1&g  
    水中以各种有机物形式存在的碳的总量。包括易被—般强氧化剂氧化的有机物和需用特殊化的有机物。 0C"2?etMx  
    3.5总固体 total solid C.H(aX)7  
    水样蒸发、烘干后残留的固总量。 Tc/<b2 \g  
    3. 6全硅 total silicon xa !/.  
    水中可溶性硅和以二氧化硅胶体状态存在的硅的总量。全硅和可溶性硅之差即叫为胶体硅。 :; La V  
3.7高纯水high-pure water, ultrapure water .Rb1 %1bdc  
电阻率在5MΩ·cm以上,各种形式存在的物质含量有一定规定限制的很纯净水 bHTTxZ-%  
3.8原水raw watcr s(=@J?7As  
纯化处理之前的水。常用的原水将自来水、井水、河水等。 *Ct ^jU7  
3.9终端 terminal。 wLg @BSC.  
高纯水生产流程中经过各道冲化工艺后,水的出口使用地点。可分别称为制水终端和用水 [?]p I  
3.10微量micro-amount ws,VO*4  
试样量在1mg左右。 ^~bAixH^k  
3.11 痕量 trace amount /q"8sj/  
试样量在1μg左右。 g\aq#QV  
3.12百万分之一(ppm) part per million 3Z%jx#  
重量比的量,相当于每百万重量的溶液中含一单位重量的溶质。在水质分析中,一殷也认为相当 d#I; e  
每升水样含杂质的毫克数(mg/L)。 DM(c :+K-  
3.13十亿分之一(ppb)part per billion CraD   
重量比的单位,相当于每十亿重量单位重量的溶液中含一单位重量的溶质,在水质分折中,一般 Y1{*AV6ev6  
认为相当于短升水样含杂质的微克数(μg/L)。 5F1P |t#  
4高纯水的级别 "z{ rC}  
4.1高纯水可分为电子级高纯水和普通高纯水,分别用符号EH和pH标志。 QY1|:(  
4. 2电子级高纯水 *1U"uJno  
4.2.1在制造工艺中使用电子级高纯水的电力半导体器件有如下特点: YH0utc  
a.具有精细图形结构; 'L veCi_  
b.对器件表面有特殊要求; H\=S_b1wo  
c.工艺对水质有特定的严格要求。 Q::_i"?c  
4.2.2电子级高纯水分为两个级别:特级和I级。它们的标志分别是: B>e},!  
特级电子级高纯水:EH—T Uc]sWcR  
一级电子级高纯水:EH—1 5_Oxl6#  
4.3普通高纯水 Xm~N Bt  
4.3.1普通高纯水用于一般电力半导体器件的制造工艺中。 h`V#)Q  
4.3.2普双高纯水分为三个级别:Ⅰ级、Ⅱ级和Ⅲ级。它们的标志分别是: 42.y.LtZ  
I级普通高纯水:pH—Ⅰ ) t$o0!  
x级普通高纯水:PH—Ⅱ crr#tad.  
m级普通高纯水:pH—Ⅲ O|Y~^:ny  
4. 4电阻率低于5MΩ·cm的水不能称为高纯水。 78F Ly7  
5技术要求 W=!di3IA  
5.1电子级高纯水 {M P (*N  
5.1.1电子级高纯水应考核四项内容: #0 eop>O  
a. 水中自由离子浓度(主要影响电阻率); Q<fDtf}  
b.水中悬浮微粒的数量和大小; 9{XV=a v  
C. 水中有机物总量; -=a,FDeR  
d. 水中细菌微生物状况。 roHJ$~q?  
5. 1. 2电子级高纯水的各项技术指标由表1给出。 "aJf W  
表l D;+sStZK3  
T!Z).PA#  
指    标 W?R@ eq.9  
    R 9b0D>Lxt  
Q ?R3aJ  
级别 pRGag~h|E  
87yZd8+)  
EH— T k8E{pc6;  
    {YF(6wVl  
pmgPBiU>  
EH-I )8*}-z  
eNu]K,rT  
电阻率,MΩ·cm(25℃) DLD5>  
    _t?#  
= buarxk  
18 (90%时间) IZ<Et/3H  
最小17 ]\ t20R{z  
    rUh2[z8:  
-8:/My  
16~18 (90%时间) $g_|U:,  
最小15 1|:'jK#gE  
'Lh nl3  
大于1μm微粒数.个/mL M}]4tAyT  
    eI98J"h%?  
F0tcVdv  
<1 |f1RhB  
    ndu$N$7+  
<[vsGUbc  
1 |E &|6h1  
 baGV]=j  
大于0.5um微被数 <Ok7 -:OxA  
(最大值),个/mL mbHMy[R  
    >0?ph<h1[q  
J;ycAF~  
100 =.l>Uw !  
    ni6zo~+W]  
)5fly%-r)  
150 EqOhzII^  
:lu"14  
细菌个数,个/mL s GE %zCB  
    c *i,z  
QcX&q%*0  
<1 9A87vs4[  
    x6ayF q=  
At !@Rc  
1 /m i&7C(6  
2*] [M,L0c  
总有机碳含量(最大值),μg/L 6PC?*^v  
    o_5[}d  
M.bkFuh  
50 "'/+}xM"5  
    BB_(!omq[  
d= ?lPEzSA  
100 =#A/d `2 b  
lkC|g%f  
全硅(最大值),μg/L hegH^IN M  
    s,l*=<  
"z= ~7g  
2 4vND ~9d  
    Sz]1`%_H/  
Zq H-]?)  
10 ?6L8#"=  
[57`V &c5  
氯含量(最大值),μg/L }o\} qu*  
    zAev@+.ld  
=h+-1zp{M^  
0.5 /zr)9LQY0  
    YPO24_B  
 ?sR(  
2 fN:FD`  
c `.BN(  
钾含量(最大值),μg/L g1]bI$;  
    a:4!z;2 |  
-8d z`o}  
0.2 AVf F<E/  
    :h!'\9   
z\?<j%e!t  
1 'tU\~3k  
,) aUp4*  
钠含量(显大值)μg/L v!$?;"d+  
    Q}a(vlZ  
kLpq{GUv:  
0.2 _+~&t9A!  
    qZv@ULluc  
wjgFe]  
1 /Nob S'd  
W"CG&.  
钙含量(最大值),μg/L r6:e 423  
    !@ y/{~Gu  
IY mkZ?cW  
0.5 m&be55M;  
    r}:U'zlC{  
\ Z5160  
1 wwJs_f\  
9RkNRB)8  
铝含量(最大值),μg/L 5j9%W18  
    "QD>:G;u  
$&Z#2 X.  
0.5 pr,1pqiAf  
    ,Ik~E&Ku2'  
T, PN6d  
1 c>+68<H  
8qxZ7|Y@  
铜含量(最大值),μg/L S1C#5=  
    Z J1@z.  
<i`s)L  
0.1 U!JmSP  
    &!HG.7AY  
j_0l'Saj  
1 B8!$?1*^a  
BuxU +  
总可溶性固体含量(最大值),μg/L :/RvtmW  
    uigzf^6,  
.SSPJY(  
3 ?g0dr?H  
    =CCddLO  
KxfH6:\RB  
10 gI@nE:(m  
?,[$8V  
5.2普通高纯水 n:H |=SF{  
5.2.1普通高纯水主要考核其电阻率。 oDG BC  
5.2.2普通高纯水的技术指标由表2给出。 DLe>EU;vS  
表2 m+ #G*  
6r[pOl:  
指   标 SLvo)`Nc3-  
    t!>0^['g4  
i 9peQ61{  
级   标 i A'p!l |P  
"# Q"gC.K  
PH-Ⅰ *2YWvGc  
    5iGz*_ m  
V9`jq$  
PH-Ⅱ 1X?q4D"  
    F-Ku0z]){?  
Jf@Xz7{z  
PH-Ⅲ ~k ]$J|}za  
2nSz0 .  
电阻率(25℃),MΩ,cm ]:4\ rBR3  
    JS&;7Z$KX  
\6/!{D,  
12-15 ]pVuRj'pP  
    NRe=O*O  
LO)QEUG  
8~<12 p.vxrk`c  
    7+P-MT  
7t6TB*H  
5~<8 U H6 Jvt  
, .uI>  
大于lμm的微粒数,个/mL VQ4rEO=t  
    ov'C0e+o  
)oMMDH w\  
<50 >NBwtF>  
)`<7qT_BM  
总有机碳含量,μg/L k FE<M6a9@  
    IjRUL/\=  
j4eq.{$  
<500 HJOoCf  
mUwGr_)wj  
全硅,μg/L bN.U2%~!  
    6Zq7O\   
{tF)%>\#  
<100 h2ou ]  
Q Pp>%iE@  
6测试方法和检验规则 J8PZVeWx  
6.1电阻率测试方法 ci{WyIh  
6.1.1用电导率仪测量高纯水电阻率时: JS0957K  
a.电导池常数选川0.1—0.01cm-1; }1Km h]  
b.被测高纯水应处于密封流动状态,避免任何气体混入,流速不低于0.3m/s。 ^TCfj^FP  
6.1.2在t℃时测得的电阻率值ρt,用下式换算成25℃的电阻率ρ25 jI,?*n<  
    ρ25=1/{αt(1/ρt-Gt)+0.05482} ]gB:ht  
式中:ρ25——25℃时的电阻率MΩ.CM !9.`zW"40  
   ρt——t℃时的电阻率MΩ.CM A>QAR)YP  
   Gt——t℃时理论纯水的电导率μS/CM,其值见附录A; -owap-Va  
   αt——t℃时修正系数,其值见附录A; yo"!C?82=  
   0.05482——t℃时理论纯水的电导率μS/CM。 +{"w5o<CO  
6.2其他技术指标测量方法 :N ]H"u9X  
  执行GB11446.5~11446.11中有关规定。 38gEto#q  
6.3检验规则 qJT|om L Y  
6.3.1各个级别高纯水的电阻率为经常必测项目。 v!%VH?cA8  
6.3.2对电子级高纯水,用水单位还应根据生产要求制定对微粒数、痕量金属、细菌、有机物及二氧化硅等各项技术指标的检验规则。 \6K1Z!*;  
6.3.3制水工艺条件改变时,应及时对表1或表2中各项技术指标全面检验。 "BD$-]  
6.3.4所有测量均应在制水终端和用水点两处测量。制水终端水的质量称为制水水质;用水点水的质量称为用水水质。对普通高纯水,用水水质和制水水质应在同一级别上。对电子级高纯,主要检验用水水质,但应给出制水水质作参考。制水水质还用于检验制水设备和技术。 iVqXf;eB!5  
6.4检验标志 f^9ntos|  
在高纯水制水终端和用水点按要求进行检验后,若水质合格,应附标有下列内容的检验合格证: c-bTf$6}  
  a.高纯水的级别标志; "IKbb 7x  
  b.要求检测的技术指标及测量结果; Qvhz$W[P>  
  c. 制水单位; Jqgo\r%`  
  d.连续供水开始日期(普通高纯水可无此项); %E `=c]!  
  e.检验员签章及检验日期。 A<<Bm M.%  
7取样、存贮和运输 S# sar}-I  
7. 1. 高纯水的取样 &)#bdt[  
7.1.1盛水容器必须使用塑料或硬质玻璃容器。用于测定硅或分析痕量成分时。必须使用聚乙烯等塑料容器。 o1]ZeF  
7.1.2取样前,盛水容船应预先用洗涤剂清洗干净,再用盐酸(1十1)或10%硝酸溶液浸泡48H(分析阴离子用的容器除外),然后用高纯水冲洗干净,再用高纯水浸泡不少于6h。临取样时,用待测高纯水冲洗容器小少于10次、方可取样。 n>i}O!agg  
7.1.3采集水样时,应先把管道中的积水放尽,并冲放5—10min,在流动状态取样。以保证水样有充分的代表性。 7bC)Co#:   
7.1.4取样的体积约为容器体积的0.6—0.8,不得太满。取样后。应迅速把容器盖严。 L|A.;Gq  
7.1. 5细菌分析采样容器必须经过高温消毒处理。 U((mOm6  
7.2 高纯水的贮存与运输 5;Q9Z1 `  
7.2.1分析高纯水中的阳、阴离子时,采集的水样可存放72H。细菌检验时,水样存放时间不得大于4H。 Rg6/6/ IN  
7.2.2高纯水在贮存和运输时,应检查容器益是否密封严密。装有水样的容器不能在太阳下曝晒或放在高温处。冬天要注意防冻。 (YKkJ  
7. 2.3高纯水在贮存和运输过程中;应定时记录时间、温度和气候条件等。
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关键词:电力  器件  半导体  工艺  纯水  方法  检测  所有关键字
看上去很痞!!!
顶端 Posted: 2008-03-27 21:34 | [楼 主]
jack2818 [UID:35579]



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Re:电力半导体器件工艺用高纯水检测方法

楼主搞成附件上传就好了, #w:6<$  
现在有点乱...................
顶端 Posted: 2008-10-14 13:32 | 1 楼
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